中央美术学院摄影专业怎么样？ 中央美术学院设计学院成立于2002年，其前身之设计艺术系成立于1995年。设计学院的基础教学强调“艺术性、实验性、前瞻性、国际性”的教学定位，旨在培养具有敏锐的洞察力、丰富的想象力、果断的决策力的设计人才。现有视觉传达、工业设计、数码媒体、摄影、时装设计和首饰设计6个专业方向。设计学院最主要的基础课程为：自然形态基础、抽象型态基础、构成基础、材料实验基础、通感训练、思维训练、综合训练等。
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